低溫等離子體廢氣處理設(shè)備的技術(shù)機(jī)理

低溫等離子體廢氣處理設(shè)備的技術(shù)機(jī)理

 

等離子體去除惡臭的方法有兩種:一種是在高能電子的作用下，打開一些有害氣體分子的化學(xué)鍵，使其直接分解成單質(zhì)原子或無害分子；另一種是在***量高能電子、離子、激發(fā)態(tài)粒子、氧自由基、羥基自由基(自由基基因有不成對電子，活性強(qiáng))的作用下氧化分解成無害產(chǎn)物。主要有以下幾個(gè)過程:

 

1.在高能電子的作用下，產(chǎn)生強(qiáng)氧化自由基o、OH和OH2。

 

2.有機(jī)分子被高能電子碰撞激發(fā)，原子鍵斷裂形成小碎片群和原子。

 

3.o、OH、HO2與被激發(fā)的原子、有機(jī)分子、廢氣處理公司的破團(tuán)等自由基反應(yīng)，有機(jī)分子***終被氧化降解為CO、CO2、H2O。去除率與電子能量和有機(jī)分子的鍵能有關(guān)。

 

根據(jù)除臭機(jī)理分析，主要發(fā)生以下反應(yīng):

 

H2O+O2、O2-、O2+——SO3+H2O

 

NH3+O2、O2-、O2+——NOx+H2O

 

H2S、NH3和臭氣濃度的去除率分別可達(dá)91.9%、93.4%和93.6%。

 

根據(jù)上述反應(yīng)，惡臭成分轉(zhuǎn)化為小分子如氮氧化物、二氧化硫、二氧化碳、H2O等。接受治療后。在一定濃度下，各種反應(yīng)轉(zhuǎn)化率在95%以上，惡臭濃度低，所以產(chǎn)物濃度極低，可以被周圍***氣接受。